随着制程技术的不断提升，台积电、三星及英特尔等晶圆大厂都在竞相追求更极限的制程，他们在2017年陆续将进入10纳米阶段，而且准备在 2018 年进入7纳米制程试产，甚至 2020 年还将要推出 5 纳米制程技术。 美国布鲁克海文国家实验室(Brookhaven National Laboratory，简称BNL)研究人员日前宣布，开发出可以达成 1纳米制程的相关技术与设备，但据悉，短期内不易量产。
根据外电报导，美国能源部旗下的布鲁克海文国家实验室研究人员，日前宣布成功采用电子束印刷技术，成功制造了尺寸只有 1 奈米的印刷设备。 据了解，这个实验室的研究人员采用电子显微镜，制造出比普通电子束印刷(EBL)技术能做出的更小尺寸。 这使电子敏感性材料在聚焦电子束的作用下，尺寸得以大大缩小，达到可操纵单个原子的程度。 而这项技术与设备的诞生，则可极大的改变材料特性，从导电变成光传输，或这两种状态下交互执行。
就目前发表的内容观察，1 纳米印刷使用的是扫描投射电子显微镜(STEM)，隔开 11 纳米，这样一来每平方公厘就能实现 1 兆个特征点(features)的密度。 再透过偏差修正 STEM 在 5纳米半栅极在氢氧硅酸盐类抗蚀剂下，实现 2 纳米的分辨率。
虽然，这也不是科学家第一次达到 1 纳米级别的技术，2016 年美国能源部下属的另一个国家实验室也宣布发展出 1纳米制程技术。 这部分使用的是纳米碳管和二硫化钼等新材料。 不过，不管是哪一边开发出的新技术与设备，就目前观察，这项技术都不会很快量产。 因为纳米碳管晶体管跟 PMMA、电子束光刻一样，跟目前的半导体制程技术有明显差异。 因此，要让厂商一下子全部淘汰现有设备，这还需要一段时间布局。